Výsledok prestížnej súťaže, ktorá sa vzťahuje na výstupy v ľubovoľnej oblasti súčasného výtvarného umenia, sa verejnosť dozvedela v priestoroch Stanice Žilina-Záriečie. Zo štyridsiatich prihlásených autorov do finále postúpili štyria. Okrem Kapelovej o víťazstvo spojené s finančnou odmenou a šesťtýždňovým pobytom v International Studio & Curatorial Program v New Yorku súperili Matěj Smetana, Martin Kochan a Jaroslav Kyša. Všetci finalisti prezentovali svoje diela v žilinskej Novej synagóge/Kunsthalle.
„Porota rozhodovala nielen na základe vystavených prác, ale tiež s ohľadom na dlhodobú tvorbu,“ vysvetlil predseda poroty Áron Fenyvesi z Maďarska. „Práva realizovaná výstava však poodhalila určité prekvapenia. Priestor synagógy sa ukázal ako ideálny pre túto výstavu a napriek tomu, že ju pripravovali štyri rozličné osobnosti, vytvorila jednoliaty celok. Pre nás bolo veľmi dobrou skúsenosťou, že sme sa vďaka tomuto mohli priamo na mieste s autormi stretnúť a porozprávať sa.“
Janu Kapelovú porota v zložení Áron Fenyvesi, Piotr Stasiowski (Poľsko), Jiří Ptáček (Česká republika), Michal Murin (Slovensko) a Mira Keratová (Slovensko) vybrala na základe jej schopností sprostredkovať DIY estetiku stredoeurópskeho človeka. „Využíva formu veľmi osobných rodinných príbehov, jej diela rozširujú pojem umenie smerom k súkromnej sfére, takže vytvára vzťah medzi prácou a vlastnou realizáciou,“ zhodnotil Fenyvesi.
V Žiline sa Cena Oskára Čepana odovzdávala po prvý raz. Nové priestory si pochvaľovali súťažiaci, porota aj návštevníci, ktorí mali napríklad z Bratislavy zabezpečenú spoločnú dopravu autobusom. „Prichádzam z krajiny, kde sa o regionalite veľa rozpráva, ale nič sa nerobí,“ povedal Fenyvesi. „Som aj preto rád, že môžem byť predsedom poroty v tejto žilinskej utópii. Je to pre mňa miesto činu a rád by som sa poďakoval žilinskému združeniu, že dáva priestor takýmto aktivitám.“
Diela finalistov budú v žilinskej synagóge vystavené do 16. novembra. Dobrovoľné vstupné poputuje v plnej výške na rekonštrukciu Novej synagógy/Kunsthalle.
